[发明专利]高效纳米真空蒸发源在审
| 申请号： | 202010128562.X | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111206228A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 王宁 | 申请（专利权）人： | 苏州泓沵达仪器科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 许云峰 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高效纳米真空蒸发源，包括顶端敞口的热屏蔽组件，所述热屏蔽组件的底部与真空法兰连接，其内部设有用于装载源材料的坩埚组件。所述坩埚组件包括U型坩埚，所述U型坩埚的顶部设有与之一体成型的盖板。所述盖板的中部设有蒸镀开口，所述盖板的顶部设有能相对其转动的顶盖。所述顶盖的上端与固接在所述热屏蔽组件上的驱动件连接，其中部设有与所述蒸镀开口匹配的通孔。所述通孔内设有用于清洁所述蒸镀开口的清洁件。本发明的纳米真空蒸发源在不影响坩埚容量的前提下缩小了散射面，降低了源材料的浪费率，而且有效避免了开口的堵塞现象，保证了源材料的蒸镀效率。 | ||
| 搜索关键词： | 高效 纳米 真空 蒸发 | ||
【主权项】：
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