[发明专利]含酸抑制剂的改性成膜树脂及其制备方法与光刻胶组合物在审
| 申请号： | 202010128580.8 | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111205385A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 顾大公;齐国强;余绍山;陈玲;方涛;毛智彪;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F220/32;C08F220/34;C08F220/20;G03F7/004 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 左光明 |
| 地址： | 315800 浙江省宁波市北仑区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含酸抑制剂的改性成膜树脂及其制备方法和应用。所述改性成膜树脂由包括成膜树脂单体和酸抑制剂单体聚合而成。所述改性成膜树脂包括成膜功能基团和酸抑制剂功能基团，因此，所述改性成膜树脂既能做主体树脂，还具有酸抑制作用。本发明还提供所述改性成膜树脂的制备方法以及其光刻胶组合物。将所述改性成膜树脂应用于光刻胶组合物时，所述光刻胶组合物所含组分分散均匀，能够保证光刻胶的光刻性能稳定，有效保证并提高了光刻胶分辨率和线宽粗糙度，而且成膜能力好，有效避免了光刻胶膜出现脆裂、剥落等不良现象。 | ||
| 搜索关键词： | 抑制剂 改性 树脂 及其 制备 方法 光刻 组合 | ||
【主权项】：
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