[发明专利]微透镜阵列结构的制备方法和保护膜有效
| 申请号： | 202010129950.X | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111399092B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 巫金波;丁叶凯;温维佳;薛厂;张萌颖;林银银 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 石家庄旭昌知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 13126 | 代理人： | 张会强 |
| 地址： | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于微透镜阵列结构制备的硅片模板的制备方法，其包括修饰硅片使硅片表面具有不润湿性，在不润湿的硅片表面制备呈阵列排布的圆形图案，形成图案化的表面，在所述图案化的表面涂布SU8光刻胶，形成SU8光刻胶液滴阵列，以及通过紫外光曝光，并在95℃条件下加热，得到具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板。本发明同时也提供有利用上述硅片模板的微透镜阵列结构的制备方法，以及一种含微透镜阵列的保护膜。本发明硅片模板的制备方法简单，且制备的硅片模板可反复利用，能够降低制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 结构 制备 方法 保护膜 | ||
【主权项】：
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