[发明专利]FIB倒切制备TEM样品的方法有效

专利信息
申请号: 202010139073.4 申请日: 2020-03-03
公开(公告)号: CN111366428B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 林利昕 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01Q30/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201315 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种FIB倒切制备TEM样品的方法,包括:步骤一、将薄膜样品粘接在样品台上;步骤二、采用FIB对薄膜样品的远离样品台的第四侧面进行刻蚀直至露出图形结构;步骤三、采用FIB在第四侧面上进行划线并刻蚀形成两条凹槽线标记;步骤四、在凹槽线标记中填充金属层形成金属线标记;步骤五、采用FIB对薄膜样品的长边对应的第一侧面进行倒切的第二次刻蚀,终点位置由对应的金属线标记确定;步骤六、采用FIB对薄膜样品的长边对应的第二侧面进行倒切的第三次刻蚀,终点位置由对应的金属线标记确定;由第二和第三次刻蚀都完成后的薄膜样品组成TEM样品。本发明能快速判断样品的厚度,大幅减少样品厚度判断的时间,从而减少整体的制样时间。
搜索关键词: fib 制备 tem 样品 方法
【主权项】:
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