[发明专利]使用超材料的光学成像设备及使用超材料的光学成像方法有效
| 申请号： | 202010139613.9 | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN111665576B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 徐旻我;李尚训;金哲基;金哉宪;李宅振;禹德夏 | 申请（专利权）人： | 韩国科学技术研究院;财团法人波动能量极限制御研究团 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G01N21/59 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个实施例提供了一种使用超材料的光学成像设备，该光学成像设备包括：超材料阵列传感器，该超材料阵列传感器包括由超材料制成的多个单元结构并与观察对象相邻放置；成像光束提供单元，该成像光束提供单元向超材料阵列传感器提供成像光束；控制光束提供单元，该控制光束提供单元控制提供至单元结构的控制光束以阻挡入射在单元结构上的成像光束；以及成像光束测量单元，该成像光束测量单元通过测量当成像光束穿过单元结构时超材料阵列传感器的成像光束透射量和当控制光束聚焦在单元结构上以阻挡入射在单元结构上的成像光束时超材料阵列传感器的成像光束透射量来测量穿过单元结构的单元结构成像光束透射量。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 材料 光学 成像 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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