[发明专利]两轴双摆精密研磨抛光机有效
| 申请号： | 202010158397.2 | 申请日： | 2020-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN111251120B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 张习兵;邹德明 | 申请（专利权）人： | 无锡市锡斌光电设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B47/00;B24B51/00 |
| 代理公司： | 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 | 代理人： | 陆滢炎 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种两轴双摆精密研磨抛光机。包括主轴旋转机构、摆轴旋转机构；主轴旋转机构、摆轴旋转机构各自独立转动；所述主轴旋转机构通过主轴带动转盘转动；所述摆轴旋转机构通过主摆轴、副摆轴分别带动主摆盘、副摆盘转动，主摆盘、副摆盘上分别设置有直线轴座，直线轴座间通过直线轴承连接；主摆盘、副摆盘分别偏心设置在主摆轴、副摆轴上，主摆盘上的直线轴座与直线轴承间为固定连接，副摆盘上的直线轴座与直线轴承间为滑动连接，顶针的运动轨迹为不规则形状，运动轨迹根据主摆盘、副摆盘的偏心值大小变化。本发明大大提高了镜面的光洁度。 | ||
| 搜索关键词： | 两轴双摆 精密 研磨 抛光机 | ||
【主权项】：
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