[发明专利]一种等离子清洗装置有效
申请号: | 202010162985.3 | 申请日: | 2020-03-10 |
公开(公告)号: | CN111299253B | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 徐俊成;尹影;江伟;庞浩 | 申请(专利权)人: | 北京烁科精微电子装备有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B01D50/00;B03C3/017 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 刘林涛 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及集成电路制造技术领域,具体涉及一种等离子清洗装置。其包括清洗腔室,和与所述清洗腔室连通的气源装置,所述气源装置向所述清洗腔室内通入洁净气体,使所述清洗腔室处于正压状态,避免外部环境污染物进入到所述清洗腔室内,实现清洗腔室内微环境控制,保持等离子工艺腔室内的洁净度等级,达到避免清洗件等离子清洗后二次污染,提高等离子清洗工艺效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 清洗 装置 | ||
【主权项】:
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