[发明专利]一种等离子清洗装置有效

专利信息
申请号: 202010162985.3 申请日: 2020-03-10
公开(公告)号: CN111299253B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 徐俊成;尹影;江伟;庞浩 申请(专利权)人: 北京烁科精微电子装备有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B01D50/00;B03C3/017
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 刘林涛
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及集成电路制造技术领域,具体涉及一种等离子清洗装置。其包括清洗腔室,和与所述清洗腔室连通的气源装置,所述气源装置向所述清洗腔室内通入洁净气体,使所述清洗腔室处于正压状态,避免外部环境污染物进入到所述清洗腔室内,实现清洗腔室内微环境控制,保持等离子工艺腔室内的洁净度等级,达到避免清洗件等离子清洗后二次污染,提高等离子清洗工艺效果。
搜索关键词: 一种 等离子 清洗 装置
【主权项】:
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