[发明专利]一种防反射膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202010165773.0 | 申请日： | 2020-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN111338007A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 胡海峰 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/00;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 刘源 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种防反射膜及其制备方法，本发明通过采用交替层叠镀制的SiN膜层和SiO |
||
| 搜索关键词： | 一种 反射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010165773.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
