[发明专利]基片处理装置和载置台上是否存在聚焦环的检测方法在审
| 申请号： | 202010169382.6 | 申请日： | 2020-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN111725045A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 宫馆孝明;平隆志;永井健治;长﨑秀昭 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供基片处理装置和载置台上是否存在聚焦环的检测方法。基片处理装置包括载置台、光源、聚焦调节部、受光部和控制部。载置台包括用于载置基片的第1载置面和包围第1载置面并用于载置聚焦环的第2载置面。聚焦调节部将来自光源的光聚焦到当聚焦环被载置于第2载置面上时的聚焦环的下表面位置。受光部接收来自聚焦环的下表面位置的光。控制部基于受光部接收到的光，检测第2载置面上是否存在聚焦环。本发明能够检测是否存在配置于载置台上的聚焦环。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 台上 是否 存在 聚焦 检测 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010169382.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：图像形成系统以及装载装置
- 下一篇：三维半导体存储器件
