[发明专利]带电粒子束装置及其光轴调整方法有效
| 申请号： | 202010170557.5 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN111354614B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 薮修平 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/12 | 分类号： | H01J37/12;H01J37/141;H01J37/147;H01J37/21;H01J37/26;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟;范胜杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于在改变了光学条件的情况下也抑制光轴偏移，在本发明的一个实施方式中，具有：带电粒子源(1)，其释放出照射到样本(14)的带电粒子束(4)；聚焦透镜系统，其包括至少一个将带电粒子束(4)以预定的缩小率聚焦的聚焦透镜(7、8)；偏转器(5、6)，其位于上述聚焦透镜系统中最下游的聚焦透镜(8)与带电粒子源(1)之间，使带电粒子源(1)的虚拟位置移动；以及控制单元(20、21、22)，其控制偏转器(5、6)以及上述聚焦透镜系统，控制单元(20、21、22)控制偏转器(5、6)使带电粒子源(1)的虚拟位置移动到抑制由上述聚焦透镜系统的缩小率的变化引起的、上述聚焦透镜系统的下游的带电粒子束(4)的中心轨道的偏移的位置(36)。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子束 装置 及其 光轴 调整 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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