[发明专利]一种耐热、可降解的辐射制冷薄膜及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 202010172445.3 申请日: 2020-03-12
公开(公告)号: CN111334012B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 陈剑洪;唐仕成;庄子哲;刘跃军;钟海长;郑伟;陈曦 申请(专利权)人: 厦门理工学院
主分类号: C08L67/04 分类号: C08L67/04;C08K13/02;C08K3/36;C08K5/544;C08K5/3475;C08K5/20;C08K5/52;C08J5/18;C08J7/06;C23C14/10;C23C14/20;C23C14/35
代理公司: 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 代理人: 陈槐萱
地址: 361024 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种耐热、可降解的辐射制冷薄膜及其制备方法和用途,涉及辐射制冷技术领域,该薄膜包括依次设置的辐射制冷层、反射层和保护层,其中,所述辐射制冷层包括聚乳酸基体以及分散于所述聚乳酸基体中的制冷微粒和选择性成核剂,所述聚乳酸基体包括聚L‑乳酸与聚D‑乳酸的熔融混合物、光稳定剂和偶联剂,所述反射层为金属层。本发明利用聚乳酸中两种最为常见的对映立构体聚L‑乳酸与聚D‑乳酸的熔融共混得到立构复合晶体对聚乳酸辐射制冷薄膜进行改性,提高了其耐热性能,拓宽了应用范围。
搜索关键词: 一种 耐热 降解 辐射 制冷 薄膜 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
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