[发明专利]离子注入装置及离子注入方法在审
| 申请号： | 202010173268.0 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111725042A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 松下浩 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/141;H01J37/147;H01J37/317 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于以低成本适当地监控中子射线的产生状况。离子注入装置(100)具备：多个装置，沿着传输离子束的射束线(BL)配置；多个中子射线测定器(51、52、53、54)，配置于射束线的附近的多个位置，并测定由于高能量的离子束的碰撞而可能在射束线的多个部位产生的中子射线；及控制装置，根据多个中子射线测定器(51～54)中的至少一个中子射线测定器的测定值来监控多个装置中的至少一个。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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