[发明专利]VFET标准单元架构在审

专利信息
申请号: 202010174351.X 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN111696981A 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 都桢湖;R.森古普塔 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;G06F30/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于垂直场效应晶体管(VFET)的单元架构。该单元架构包括:顶源极/漏极(S/D)接触结构,在俯视图中具有正方形形状;水平金属图案,形成在顶S/D接触结构上并在第一方向上延伸;以及垂直金属图案,发送出由VFET形成的逻辑电路的输出信号。该单元架构还包括形成在将VFET的栅极连接的栅极连接图案上的栅极接触结构,其中超级通路形成在栅极接触结构上以接收逻辑电路的输入信号。
搜索关键词: vfet 标准 单元 架构
【主权项】:
暂无信息
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