[发明专利]一种制备变径纳米结构的方法有效
| 申请号： | 202010174972.8 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111439720B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 耿广州;李俊杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种制备变径纳米结构的方法，包括以下步骤：(1)对衬底进行表面清洁处理；(2)使用灵敏度不同的抗蚀剂对所述衬底进行旋涂以形成至少为2层的抗蚀剂层，其中，相邻层的抗蚀剂层所采用的抗蚀剂的灵敏度不同；(3)对步骤(2)中具有抗蚀剂层的衬底进行图形曝光、显影和定影以形成具有图形结构的抗蚀剂层；(4)对步骤(3)中形成的具有图形结构的抗蚀剂层进行薄膜沉积，然后去除抗蚀剂层。本发明的方法制备的变径三维纳米结构可以包含任意能够曝光出的图案、尺寸，可以是实心，也可以是空心的，也可以是由原子层沉积可以实现的多种材料来构成。本发明制备的变径三维纳米结构可以用在超材料表面、超透镜、光电器件和传感器等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】：
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