[发明专利]一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质

摘要

本发明实施例公开了一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质，其中光学临近效应修正方法包括：根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型；获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；根据线端回缩规则表，确定初始修正值；根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。本发明实施例提供的方法通过建立线端回缩规则表确定初始修正值，利用初始修正值进行光学临近效应修正，可以有效提高光学临近效应修正在修正线端回缩时的收敛性，提高修正效率，减少光学临近效应修正的运行时间，进而提高半导体制造效率。