[发明专利]一种光线探测基板及其制备方法、光线探测设备有效

专利信息
申请号: 202010176046.4 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN111354756B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 孟凡理;陈江博;李凡;梁魁;李达;张硕;李泽源 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/108
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;冯建基
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种光线探测基板及其制备方法、光线探测设备。该光线探测基板包括基底和设置在基底上的多个光线探测单元,光线探测单元排布呈阵列;光线探测单元包括第一电极、第二电极和光电转换层,光电转换层位于第一电极和第二电极的背离基底的一侧,光电转换层在基底上的正投影覆盖第一电极和第二电极,第一电极和第二电极在基底上的正投影之间具有间隔区,光电转换层上开设有开口,开口在基底上的正投影位于间隔区。该光线探测基板,通过使开口在基底上的正投影位于间隔区,即开口开设在光电转换层与第一电极和第二电极的非叠置区域,能够在通过刻蚀形成光电转换层以及开口的图形时,确保该光线探测基板的光电特性不会受到损害。
搜索关键词: 一种 光线 探测 及其 制备 方法 设备
【主权项】:
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