[发明专利]一种GaN纵向逆导结场效应管在审

专利信息
申请号: 202010180348.9 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111341850A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 周琦;魏鹏程;董志文;马骁勇;熊娓;杨秀;刘熙;陈万军;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/80 分类号: H01L29/80;H01L29/20;H01L29/47;H01L29/45;H01L29/417
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于功率半导体技术领域,涉及GaN纵向逆导结场效应管。本发明利用器件顶层两个背靠背的PN结形成JFET结构来控制沟道的开启和关断。肖特基金属和欧姆金属分别淀积在相邻两个JFET区上形成源极,利用源极肖特基金属形成逆导二极管的阳极,漏极金属为逆导二极管的阴极。通过适当的控制欧姆接触JFET区的沟道宽度和PN结的掺杂浓度可以实现对器件阈值电压的控制。本发明的有益效果为,在正向开关工作状态下,具有阈值电压可调,导通电阻低、饱和电流大、关态耐压高和低功耗等优点;在逆导工作状态下,具有开启电压低、导通电阻低,反向耐压大和低功耗等优点。
搜索关键词: 一种 gan 纵向 逆导结 场效应
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010180348.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top