[发明专利]一种同步辐射X射线双反射镜有效

专利信息
申请号: 202010181436.0 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111354500B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 贾全杰;李志宏;杨福桂;李明 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 李兴林
地址: 100000 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种同步辐射X射线双反射镜,包括两个平面偏转镜,两个所述平面偏转镜以固定的角度装配在反射镜内部的调整支架上。两个所述偏转镜公用一套冷却系统。两个所述偏转镜相对设置且二者相接触的两边固定锁死;两个所述偏转镜之间的夹角大于入射光与第一块镜子表面的夹角。所述调整支架的投角转轴与两个所述偏转镜的接触边相重合。本发明增大了反射光线的偏转角,便于阻挡韧致辐射,提高了高次谐波抑制比和光束角度的稳定性。双反射镜固定在单一调整机构上,镜子投角的抖动不改变出射光角度;本发明能够调整光束通量,可以通过调整镜子的投角,连续调整出射光束的通量而不改变光路,适合于不同样品对于不同光强的需求。
搜索关键词: 一种 同步 辐射 射线 反射
【主权项】:
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