[发明专利]一种抛光盘冷却结构、抛光盘以及抛光机有效

专利信息
申请号: 202010185005.1 申请日: 2020-03-17
公开(公告)号: CN111230741B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 王腾;阴俊沛;蒲以松 申请(专利权)人: 西安奕斯伟硅片技术有限公司
主分类号: B24B55/02 分类号: B24B55/02;B24B37/26;B24B27/00;B24B37/08;B24B47/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 710065 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供一种抛光盘冷却结构、抛光盘以及抛光机,所述抛光盘冷却结构包括:转轴,所述转轴的内部中空;插设于所述转轴内部的中空管,所述中空管的内部形成为进水通道,所述中空管的外壁与所述转轴的内壁之间的空腔形成为出水通道;呈上下设置的上冷却盘和下冷却盘,所述上冷却盘的内部空腔与所述出水通道连通,所述下冷却盘的内部空腔与所述进水通道连通;与上冷却盘的底面进水孔的数量相同的若干三通管,用于连通上冷却盘和下冷却盘。根据本发明实施例的抛光盘冷却结构,通过分流的三通管将冷却水在离心力的作用下迅速分流到上、下冷却盘,实现冷却水的快速循环,从而对研磨盘的温度进行有效控制,确保抛光质量。
搜索关键词: 一种 抛光 冷却 结构 以及 抛光机
【主权项】:
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