[发明专利]一种基于量子碳膜的pn结二极管结构及制作方法有效

专利信息
申请号: 202010187405.6 申请日: 2020-03-17
公开(公告)号: CN111524993B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 刘萍;刘丹 申请(专利权)人: 湖北云邦科技有限公司
主分类号: H01L31/103 分类号: H01L31/103;H01L31/0288;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 王震宇
地址: 430205 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种基于量子碳膜的pn结二极管结构及制作方法,该pn结二极管结构包括:p型基板,所述p型基板是由多层石墨烯层上下层叠形成的量子碳膜基板;位于所述p型基板的上侧的n型层,所述n型层是通过在所述p型基板中注入掺杂元素而形成,所述n型层与所述p型基板形成pn结;位于所述n型层上与所述n型层形成欧姆接触的上电极;以及位于所述p型基板的下侧与所述p型基板形成欧姆接触的下电极。该pn结二极管结构可应用于高温、高频、高效的大功率器件,能够提高器件性能。该制作方法工艺简单,易于量产和普及。
搜索关键词: 一种 基于 量子 pn 二极管 结构 制作方法
【主权项】:
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