[发明专利]基于双玻孔阵的滤光膜系和近红外光谱芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010189868.6 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN113495310A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 宋晨智;蔡红星;姚治海;石晶;任玉;端木彦旭;全王昕瑞;韩颖 申请(专利权)人: 吉林求是光谱数据科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G01J5/08;G01J5/00;G01J3/28;G01J3/12;C23C14/18;C23C14/24;C23C14/58
代理公司: 吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204 代理人: 仲伟清
地址: 130000 吉林省长春市净*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明公开基于双玻孔阵的滤光膜系和近红外光谱芯片及其制备方法,包括采用二氧化硅介质的下层陪镀片、镀在下层陪镀片上的银膜以及镀在银膜上层的覆盖片,所述覆盖片采用二氧化硅介质,所述银膜刻蚀有孔阵。利用表面等离激元极化振子(SPP)的原理制成的亚波长孔阵结构具有天然的耐腐蚀,调制连续,可应用于近红外波段等优点。
搜索关键词: 基于 双玻孔阵 滤光 红外 光谱 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
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