[发明专利]隧道势垒层及其制造方法、磁阻效应元件和绝缘层在审
| 申请号： | 202010190069.0 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN111725393A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 市川心人;中田胜之 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01L43/08 | 分类号： | H01L43/08;H01L43/10 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;谢弘 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种隧道势垒层，其包含非磁性氧化物，晶体结构既包括规则尖晶石结构也包括不规则尖晶石结构。 | ||
| 搜索关键词： | 隧道 势垒层 及其 制造 方法 磁阻 效应 元件 绝缘 | ||
【主权项】：
暂无信息
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