[发明专利]基于晶圆键合形成SiO2 有效
申请号: | 202010190524.7 | 申请日: | 2020-03-18 |
公开(公告)号: | CN111239900B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 胡志朋;吴月;邵斯竹;肖志雄;朱兴国;冯俊波;郭进 | 申请(专利权)人: | 联合微电子中心有限责任公司 |
主分类号: | G02B6/14 | 分类号: | G02B6/14;G02B6/13;G02B6/136;G02B6/122;G02B6/12 |
代理公司: | 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 | 代理人: | 霍维英 |
地址: | 400030 重庆*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: |
本发明公开了基于晶圆键合形成SiO |
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搜索关键词: | 基于 晶圆键合 形成 sio base sub | ||
【主权项】:
暂无信息
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