[发明专利]形成涂层的方法在审
| 申请号： | 202010191195.8 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN113492094A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | M·加尔维斯;张俸准 | 申请（专利权）人： | NBD纳米技术公司 |
| 主分类号： | B05D5/00 | 分类号： | B05D5/00 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 丁靄迪;翟羽 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在基材上形成涂层的方法，所述方法包含：(a)提供一种具有基材表面的基材；(b)提供一种包含卤代烷基硅烷和溶剂的制剂；(c)用喷嘴在约20kPa至约2000kPa的雾化压力以及约1ml/min至约50ml/min的流速下将所述制剂雾化以形成雾化制剂；以及(d)在距所述喷嘴约1cm至约50cm的距离处将所述雾化制剂施加至所述基材表面，其中所述涂层具有小于约100°的水接触角。本发明还涉及一种用于形成涂覆的基材的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 涂层 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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