[发明专利]一种无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒的制备方法有效
| 申请号： | 202010192315.6 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN111253910B | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 雷红;王天仙 | 申请（专利权）人： | 昆山捷纳电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 刘玉珠 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒的制备方法，包括如下步骤：S01：制备纳米氧化硅溶胶；S02：制备无机聚电解质聚硅酸镁铁铝锌；S03：在25℃及搅拌条件下将所述聚硅酸镁铁铝锌逐滴加入到所述纳米二氧化硅溶胶中，并连续搅拌6小时；经过离心和过滤得到无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒溶液。本发明提供的一种无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒的制备方法，可以提高蓝宝石基片的材料去除速率，降低表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无机 电解质 氧化 复合 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】：
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