[发明专利]半导体结构的干燥方法在审
申请号: | 202010194354.X | 申请日: | 2020-03-19 |
公开(公告)号: | CN111370295A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 邹斌 | 申请(专利权)人: | 中芯集成电路制造(绍兴)有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;B81C1/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黄隶凡 |
地址: | 312000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体结构的干燥方法,其中半导体结构包括腔体,该干燥方法包括:使用可溶于水的有机溶剂液体置换出腔体内的去离子水,置换后腔体内具有包括有机溶剂液体与残留去离子水的互溶溶液;利用有机溶剂蒸汽对腔体进行干燥,以去除腔体内的所述互溶溶液。上述半导体结构的干燥方法先采用有机溶剂置换出腔体内去离子水,由于有机溶剂易溶于水,因此利用浓度高的有机溶剂溶液可置换出腔体内的大部分去离子水,从而使得腔体内的去离子水变为有机溶剂溶液。然后再采用有机溶剂蒸汽将腔体内残留的有机溶剂与去离子水的溶液蒸发出来,从而可以有效地将腔体内剩余少量的去离子水蒸发出来,提升了干燥效率。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 干燥 方法 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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