[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理装置的维护方法有效
| 申请号： | 202010194926.4 | 申请日： | 2020-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN111755311B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 大矢和广;黑田学 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理装置的维护方法。用等离子体化的处理气体进行基片的处理的等离子体处理装置包括设置于被供给处理气体的处理容器内的载置台，该载置台载置作为处理对象的基片。支轴部包括从背面侧支承载置台，贯通处理容器的壁部而伸出到外部的伸出部分，并且与使载置台绕轴旋转的旋转机构连接。高频电源部供给等离子体处理用的高频电功率，高频屏蔽件覆盖伸出部分的支轴部以抑制高频的泄漏。支轴部和高频屏蔽件包括将其在长度方向分割的、能够一体拆卸的组件部。本发明的维护作业简单。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 维护 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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