[发明专利]一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202010199955.X | 申请日： | 2020-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN111269599A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 周殿力;侯思辉;高林;于军胜 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00;C09D7/63;C09D7/61;C09D7/40;C09D7/20;B05D7/24;B05D3/14;G09F9/00 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 轩勇丽 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法，所述防紫外辐射结构至下而上由基底、紫外辐射薄膜组成，所述防紫外辐射薄膜总厚度在18μm以下，所述防紫外辐射薄膜的原料包括以下成分：混合溶剂65～35％，防紫外辐射剂25～55％，保护剂10％；所述防紫外辐射剂为仙人掌表皮萃取液。本发明所选取的加入乙二醇做溶剂的纳米级多孔SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 显示 器件 紫外 辐射 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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