[发明专利]移除硬遮罩的钴兼容性半水基清洗液、其制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 202010208598.9 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN113430072A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 王溯;蒋闯;冯强强 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: C11D7/04 分类号: C11D7/04;C11D7/32;C11D7/26;C11D7/50;C11D7/60;H01L21/02
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 王卫彬;何敏清
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种移除硬遮罩的钴兼容性半水基清洗液、其制备方法及应用。所述的半水基清洗液由下述原料制得,所述的原料包括以下质量分数的组分:10%‑45%的氧化剂、0‑1.5%的D‑氨基酸氧化酶、0‑2.5%的D型氨基酸、0.1%‑15%的有机碱、0.001%‑15%的螯合剂、0.005%‑15%的缓蚀剂、0.05%‑15%的羧酸铵、0.005%‑1.5%的EO‑PO聚合物L42、0.005%‑2.5%的钝化剂、20%‑60%的水溶性有机溶剂和余量的水,所述的质量分数为各组分质量占各组分总质量的百分比。本发明半水基清洗液对多种金属及电介质缓蚀性强,尤其是对钴的兼容性强,清洗效果佳。
搜索关键词: 硬遮罩 兼容性 半水基 清洗 制备 方法 应用
【主权项】:
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