[发明专利]一种低羟胺水基清洗液、其制备方法及应用在审
| 申请号： | 202010209649.X | 申请日： | 2020-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113430069A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 王溯;蒋闯;冯强强 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/835 | 分类号： | C11D1/835;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/60;C08B37/16;H01L21/02;H01L21/768 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低羟胺水基清洗液、其制备方法及应用。本发明提供了一种低羟胺水基清洗液，其特征在于，其由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：0.1％‑5％的羟胺类化合物、0.5％‑20％的醇胺、0.1％‑20％的季铵碱、0.01％‑30％的螯合剂、0.1％‑20％的聚季铵盐表面活性剂、0.1％‑15％的非离子型表面活性剂、0.1％‑25％的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比。本发明的低羟胺水基清洗液对多种金属及电介质缓蚀性强，清洗效果佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低羟胺水基 清洗 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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