[发明专利]光罩及曝光方法在审
申请号: | 202010209962.3 | 申请日: | 2020-03-23 |
公开(公告)号: | CN111258173A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 应见见 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种光罩,包括:显示区部:用于形成显示区图形;电路区部:设置于所述显示区部的外侧,用于形成栅极驱动电路,其中,所述电路区部包括至少两个电路分支区部,任意一个所述的电路分支区部用于形成独立的栅极驱动电路;以及,拼接区部:设置于所述电路分支区部靠近所述显示区部的一侧并与该电路分支区部连接,用于形成连接显示区与栅极驱动电路的拼接电路。通过将需验证的GOA架构设计于一张光罩中,降低了光罩的制造成本,避免了因频繁切换光罩造成的曝光机台产能损失,且能保证GOA验证实验中的单一变量,增加验证结果可靠性,另一方面,可根据实验结果降验证光罩转入量产使用,进一步降低光罩成本。 | ||
搜索关键词: | 曝光 方法 | ||
【主权项】:
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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