[发明专利]光罩及曝光方法在审

专利信息
申请号: 202010209962.3 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN111258173A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 应见见 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种光罩,包括:显示区部:用于形成显示区图形;电路区部:设置于所述显示区部的外侧,用于形成栅极驱动电路,其中,所述电路区部包括至少两个电路分支区部,任意一个所述的电路分支区部用于形成独立的栅极驱动电路;以及,拼接区部:设置于所述电路分支区部靠近所述显示区部的一侧并与该电路分支区部连接,用于形成连接显示区与栅极驱动电路的拼接电路。通过将需验证的GOA架构设计于一张光罩中,降低了光罩的制造成本,避免了因频繁切换光罩造成的曝光机台产能损失,且能保证GOA验证实验中的单一变量,增加验证结果可靠性,另一方面,可根据实验结果降验证光罩转入量产使用,进一步降低光罩成本。
搜索关键词: 曝光 方法
【主权项】:
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