[发明专利]半导体制造装置以及半导体器件的制造方法在审

专利信息
申请号: 202010215741.7 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN111739818A 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 横森刚;大久保达行;名久井勇辉;牧浩;齐藤明;冈本直树 申请(专利权)人: 捷进科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;闫剑平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于,提供易于进行上推时序的变更的半导体制造装置。半导体制造装置具备:上推单元,其具有与切割带接触的多个块;能够上下移动的头部,其具有吸附所述裸芯片的筒夹;以及控制部,其控制所述上推单元以及所述头部的动作。所述上推单元构成为使所述多个块能够各自独立地动作。所述控制部构成为,由多个步骤构成所述多个块的上推时序,基于能够针对每个块以及每个步骤设定所述多个块的高度以及速度的时间图制程来控制所述多个块的动作。
搜索关键词: 半导体 制造 装置 以及 半导体器件 方法
【主权项】:
暂无信息
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