[发明专利]碳化硅基CVD金刚石涂层的制备方法及碳化硅基在审

专利信息
申请号: 202010219800.8 申请日: 2020-03-25
公开(公告)号: CN111499410A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 何利文;蒋梦婷;欧阳晓平 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: C04B41/85 分类号: C04B41/85;C04B41/91;C23C16/02;C23C16/27
代理公司: 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 代理人: 何婷;田利琼
地址: 411105 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明实施例涉及碳化硅陶瓷技术领域,公开了一种碳化硅基CVD金刚石涂层的制备方法及碳化硅基。方法包括:S1、基体预处理:将碳化硅基体打磨,抛光,洗涤,烘干;S2、酸处理:将预处理后的碳化硅基体置于盐酸溶液中进行超声清洗,取出后用去离子水清洗干净;S3、碱处理:将酸处理后的碳化硅基体置于氢氧化钠溶液中,加热碱煮,然后用去离子水清洗并烘干;S4、硅烷偶联剂改性:将碱处理后的碳化硅基体浸渍在硅烷偶联剂溶液中24h,后烘干;S5、涂层的制备:将改性处理后的碳化硅基体置于化学气相沉积炉中,通入H2和CH4,沉积金刚石涂层。本发明实施例可以提升碳化硅基金刚石涂层的膜基结合性能。
搜索关键词: 碳化硅 cvd 金刚石 涂层 制备 方法
【主权项】:
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