[发明专利]碳化硅基CVD金刚石涂层的制备方法及碳化硅基在审
申请号: | 202010219800.8 | 申请日: | 2020-03-25 |
公开(公告)号: | CN111499410A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 何利文;蒋梦婷;欧阳晓平 | 申请(专利权)人: | 湘潭大学 |
主分类号: | C04B41/85 | 分类号: | C04B41/85;C04B41/91;C23C16/02;C23C16/27 |
代理公司: | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 | 代理人: | 何婷;田利琼 |
地址: | 411105 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: |
本发明实施例涉及碳化硅陶瓷技术领域,公开了一种碳化硅基CVD金刚石涂层的制备方法及碳化硅基。方法包括:S1、基体预处理:将碳化硅基体打磨,抛光,洗涤,烘干;S2、酸处理:将预处理后的碳化硅基体置于盐酸溶液中进行超声清洗,取出后用去离子水清洗干净;S3、碱处理:将酸处理后的碳化硅基体置于氢氧化钠溶液中,加热碱煮,然后用去离子水清洗并烘干;S4、硅烷偶联剂改性:将碱处理后的碳化硅基体浸渍在硅烷偶联剂溶液中24h,后烘干;S5、涂层的制备:将改性处理后的碳化硅基体置于化学气相沉积炉中,通入H |
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搜索关键词: | 碳化硅 cvd 金刚石 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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