[发明专利]一种工件抛光方法有效
| 申请号： | 202010221248.6 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN111266938B | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 平湖市鼎天机械有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09G1/02;C01G49/08;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 嘉兴中创致鸿知识产权代理事务所(普通合伙) 33384 | 代理人： | 姚海波 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种工件抛光方法，属于抛光领域。一种工件抛光方法，其特征是，使待加工的工件浸入水基抛光液中，利用控制工件在300~800r/min转速下旋转，同时对水基抛光液施加强度为0.2~2T的磁场，进行抛光，所述水基抛光液由磁流变液和磨料组成，所述磁流变液按质量百分比，由下述组分组成：水30~80%，触变剂3~8%，分散剂0~5%，润湿剂0~5%，羰基铁粉20~70%，所述磨料与磁流变液的比例为：磨料与羰基铁粉的质量比为1~2:10。本发明提供一种水基抛光剂及利用该抛光剂进行抛光的方法，所述方法抛光效率高，适用于异形件的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工件 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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