[发明专利]一种对准系统及光刻机有效
| 申请号： | 202010224259.X | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113448189B | 公开（公告）日： | 2022-11-15 |
| 发明（设计）人： | 高安 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种对准系统及光刻机，对准系统包括：对准光束产生单元；物镜；第一偏振分光棱镜，位于物镜远离对准标记一侧，且位于第一路一次衍射光的出射光路上；第一偏振分光棱镜包括入光面和多个出光面；衍射光回射单元，包括第一衍射光回射单元，第一衍射光回射单元位于第一偏振分光棱镜的一个出光面；分光元件，与第一偏振分光棱镜沿垂直于物镜光轴的方向排列，且与第一偏振分光棱镜位于物镜的光轴的相对两侧；干涉信息探测单元，位于第一偏振分光棱镜以及分光元件的出射光路上，用于获取正级一次衍射光和负级一次衍射光的干涉光强。本发明提供一种对准系统及光刻机，以实现降低了对准系统中光学器件的制造和集成难度，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 系统 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010224259.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
