[发明专利]覆膜有效
申请号: | 202010227675.5 | 申请日: | 2020-03-27 |
公开(公告)号: | CN111748274B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 池田拓也;松原圭佑;谷村功太郎;城下知辉 | 申请(专利权)人: | 郡是株式会社 |
主分类号: | B32B27/00 | 分类号: | B32B27/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;狄茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种高硬度并且耐弯曲性也高的覆膜。本发明所涉及的覆膜具有透明的基材膜、叠层于上述透明基材膜的至少一个表面的缓冲层和叠层于上述缓冲层上且由电离辐射固化性树脂形成的硬涂层,上述硬涂层的膜厚为50~250μm,上述缓冲层的膜厚为5~75μm。 | ||
搜索关键词: | 覆膜 | ||
【主权项】:
暂无信息
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