[发明专利]一种电化学沉积装置在审
| 申请号： | 202010231379.2 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN111254479A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 张国才;曹占锋;闫俊伟;麦轩伟;王大军;王宏;董士豪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00;C25D21/12;C25D21/06;C25D21/18 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种电化学沉积装置，包括：第一槽体，所述第一槽体用于进行电化学沉积，所述第一槽体内设有相对间隔设置的阳极和阴极，所述阳极和所述阴极之间的间距可调；第二槽体，所述第二槽体与所述第一槽体相连，所述第一槽体内的溶液可流入所述第二槽体，所述第二槽体的出液口连接有过滤器，所述过滤器用于对所述溶液进行过滤；以及喷流系统，所述喷流系统的进液端与所述过滤器连接，所述喷流系统的出液端设置在所述第一槽体内。本发明实施例所述的电化学沉积装置可以提高镀膜的厚度均匀性，而且，溶液净化效果较好，可以提高镀膜的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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