[发明专利]光学分析装置在审
| 申请号： | 202010235581.2 | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111829967A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 斧田拓也;横山一成;世古朋子 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场先进技术 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李成必;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供光学分析装置，通过在试样测量和参考测量中使光路长度维持相同，提高测量精度，分析流过具有透光性的配管(H)的试样的光学分析装置(100)具备：具有光源(21)和聚光透镜(22)的光源单元(2)；检测光源单元(2)的光的光检测单元(3)；以及将光源单元(2)和光检测单元(3)支撑成可移动的支撑机构(4)，支撑机构(4)使光源单元(2)和光检测单元(3)在试样测量位置(S)和参考测量位置(R)之间移动。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 分析 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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