[发明专利]气体放电光源中的气体优化有效

专利信息
申请号: 202010237543.0 申请日: 2017-01-31
公开(公告)号: CN111262117B 公开(公告)日: 2023-05-19
发明(设计)人: T·阿加沃尔 申请(专利权)人: 西默有限公司
主分类号: H01S3/036 分类号: H01S3/036;H01S3/038;H01S3/08;H01S3/097;H01S3/0971;H01S3/104;H01S3/13;H01S3/134;H01S3/225;H01S3/23
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 吕世磊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 通过在一组极端测试条件下操作光源的同时估计光源的操作参数的多个极值来调节光源的一个或多个操作特性。对于每个极端测试条件,在极端测试条件下操作第一气体放电室的同时向光源的第一气体放电室提供一组能量脉冲,以产生第一脉冲放大光束;在极端测试条件下操作第二气体放电室的同时向光源的第二气体放电室提供一组能量脉冲,以产生第二脉冲放大光束。测量极端测试条件下的操作参数的极值,由此估计操作参数的极值。
搜索关键词: 气体 放电 光源 中的 优化
【主权项】:
暂无信息
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