[发明专利]一种氮掺杂CVD金刚石激光晶体及其制备方法在审
| 申请号： | 202010238040.5 | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111411397A | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 赵芬霞;刘宏明 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/04 | 分类号： | C30B29/04;C30B25/00;C30B33/04;C23C16/30;C23C16/40;H01S3/06;H01S3/16 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 邓凌云 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及激光科学技术领域，且公开了一种氮掺杂CVD金刚石激光晶体，包括CVD金刚石晶体、增透膜和反射膜，增透膜镀在CVD金刚石晶体的前表面，反射膜镀在CVD金刚石晶体的后表面，增透膜由氟化镁薄膜、二氧化铪薄膜和二氧化钛薄膜叠加构成，反射膜，其按质量分数包括二氧化钛粉体30‑40份、三氧化二铝粉体5‑8份、光学环氧树脂胶30‑35份、增白剂2‑3份和助剂8‑12份；反射膜由以下方法制得：将相应重量的二氧化钛粉体和三氧化二铝粉体加入搅拌罐中进行混合，搅拌速度为80‑100rpm，搅拌时间为20‑30min，然后将相应重量的光学环氧树脂胶、增白剂和助剂加入搅拌罐内。该氮掺杂CVD金刚石激光晶体，有效解决了CVD金刚石激光晶体难获得637nm激光的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掺杂 cvd 金刚石 激光 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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