[发明专利]一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法在审
| 申请号： | 202010238940.X | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111232998A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 周鸿刚;李长虹;王明辉;韩启超;魏娇 | 申请（专利权）人： | 辽宁鸿昊化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B35/10 | 分类号： | C01B35/10 |
| 代理公司： | 长沙睿翔专利代理事务所(普通合伙) 43237 | 代理人： | 周松华;孙建霞 |
| 地址： | 111003 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于化学合成与分离领域，特别是涉及一种高纯度硼‑10酸痕量杂质去除方法本发明在一定温度下，用碳酸水溶液和异丁醇的混合溶液煮洗硼‑10酸，将硼‑10酸中的离子杂质转移至溶液中，并反复多次直至硼‑10酸中的离子杂质含量≦1ppm。采用本发明方法能够有效去除硼‑10酸中的痕量杂质，使硼‑10酸纯度达到99.9％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纯度 10 痕量 杂质 去除 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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