[发明专利]用于处理衬底的设备及方法在审
| 申请号： | 202010244783.3 | 申请日： | 2020-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN111809206A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | M·艾尔斯;J·麦克尼尔;T·托马斯 | 申请（专利权）人： | SPTS科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D7/12 | 分类号： | C25D7/12;C25D5/00;C25D17/00;C25D21/10;C25D17/10;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 章蕾 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于处理衬底的设备及方法。根据一个实施例，用于电化学处理半导体衬底的设备包括：处理腔室，其具有可密封到半导体衬底的外围部分以便于界定覆盖处理体积的类型；衬底支撑件，其用于支撑所述半导体衬底；磁性布置，其安置在所述处理腔室的外部，所述磁性布置产生磁场；控制器，其用于控制所述磁性布置以便改变所述磁场；及搅拌器，其安置在所述处理腔室内，所述搅拌器包括磁性响应元件，所述磁性响应元件响应于所述磁性布置的所述磁场的改变以便向所述搅拌器提供往复运动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 衬底 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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