[发明专利]一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010245239.0 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN111286703B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 王传军;闻明;谭志龙;沈月;许彦亭;管伟明;郭俊梅;陈家林 申请(专利权)人: 贵研铂业股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C19/03;C22C1/02;B22D27/08;C22F1/10
代理公司: 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 代理人: 蒋明;姜开远
地址: 650000 云南省昆明市*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法,所述镍铂合金溅射靶材中铂的含量为21~31%原子百分比,镍铂溅射靶材溅射面的(111)面的取向率大于30%,(200)面的取向率小于(111)面且大于20%。所述制备方法包括以下步骤:以4N5镍和铂为原料,配制成铂的含量为21~31%的合金,将合金放入熔炼炉中进行熔炼,待原料熔化后置于浇铸模具中进行浇铸获得铸锭;再将铸锭采用温轧轧制形成坯料后再结晶退火,最后加工成型获得靶材。本发明制备获得了成品率高,稳定性好的含铂为21~31原子%的NiPt合金溅射靶材,通过控制晶粒取向改善了靶材的成膜速率和薄膜性能稳定性,获得了沉积速率和膜厚均匀性较好的NiPt薄膜,大大提高了生产效率,极大节约了成本。
搜索关键词: 一种 合金 溅射 及其 制备 方法
【主权项】:
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