[发明专利]光学三维测量系统在审
申请号: | 202010255457.2 | 申请日: | 2020-04-02 |
公开(公告)号: | CN111307068A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 方仲平;吴友仁 | 申请(专利权)人: | 元素光电智能科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 苏州通途佳捷专利代理事务所(普通合伙) 32367 | 代理人: | 李阳 |
地址: | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了光学三维测量系统,专门用于高速在线自动检测半导体晶片和晶片封装连线的检查,本系统三维测量系统仅仅需要采集一幅图,就可以得到整个物体表面的三维形貌,因而,测量速度极快,特别适合于在线高速三维检测。该测量系统也适用于检测其他各种物体精密零件的三维表面形貌,特别是其他三维测量系统所不能检测的不连续表面。 | ||
搜索关键词: | 光学 三维 测量 系统 | ||
【主权项】:
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