[发明专利]一种CuS/CuO/Cu纳米线异质结阵列材料及其制备与应用在审

专利信息
申请号: 202010257931.5 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN111545220A 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 孙彦刚;吴冲冲;王金果;崔哲;宋凤革;饶品华 申请(专利权)人: 上海工程技术大学
主分类号: B01J27/04 分类号: B01J27/04;B01J37/20;B01J37/08;A62D3/17;A62D101/28;A62D101/26;A62D101/22
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 吴文滨
地址: 201620 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种CuS/CuO/Cu纳米线异质结阵列材料及其制备方法与应用,所述制备方法具体包括以下步骤:(a)将预处理过的铜材浸泡在NaOH和(NH4)2S2O8的混合液中,在铜材上生长Cu(OH)2纳米线阵列;(b)将步骤(a)得到的生长有Cu(OH)2纳米线阵列的铜材浸入Na2S溶液中进行硫化,后取出洗涤干燥,再进行热处理,得到CuS/CuO/Cu异质结阵列材料。所述纳米线异质结阵列材料以铜材为基底材料,在铜材上自下而上依次生长有CuO和CuS。与现有技术相比,本发明实现了在金属Cu网上CuS/CuO纳米线异质结阵列的制备,并定量可控地将Cu(OH)2转变为CuS,得到的CuS/CuO/Cu纳米线异质结阵列材料具有优异的光催化活性,可以应用于光催化降解过程,环境污染治理等领域。
搜索关键词: 一种 cus cuo cu 纳米 线异质结 阵列 材料 及其 制备 应用
【主权项】:
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