[发明专利]III族氮化物基晶体管器件及制造用于其的栅极结构的方法在审
申请号: | 202010258725.6 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN111799162A | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | C.奥斯特迈尔;O.赫贝尔伦;G.普雷希特尔;M.施塔本泰纳 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技奥地利有限公司 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L21/335;H01L29/423;H01L29/778 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;申屠伟进 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
III族氮化物基晶体管器件及制造用于其的栅极结构的方法。在实施例中,III族氮化物基晶体管器件,包括第一III族氮化物阻挡层,布置在III族氮化物沟道层上,第一III族氮化物阻挡层和III族氮化物沟道层具有不同的带隙并且形成能够支持二维电荷气的异质结,源极、栅极和漏极,在第一III族氮化物阻挡层的上表面上,栅极凹部,从第一III族氮化物阻挡层的上表面延伸到第一III族氮化物阻挡层中,以及p掺杂的III族氮化物材料,布置在栅极凹部中并且具有在第一III族氮化物阻挡层的上表面上朝向漏极延伸的第一延伸。该第一延伸具有长度l |
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搜索关键词: | iii 氮化物 晶体管 器件 制造 用于 栅极 结构 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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