[发明专利]等离子处理真空腔体结构在审
| 申请号： | 202010263300.4 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN111326398A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 罗弦 | 申请（专利权）人： | 深圳市诚峰智造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子处理真空腔体结构，包括绝缘体、电极板、第一腔体和与所述第一腔体相配合的第二腔体，所述绝缘体设置于所述第一腔体内，所述电极板设置于所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上，所述第一腔体、第二腔体围成等离子处理空间。将等离子处理腔体结构设计为可拆分的第一腔体和第二腔体，第一腔体用于固定绝缘体和电极板等部件，第二腔体可用于运输待处理产品，搭配自动传送生产线等可实现自动上下料，提高产品处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 空腔 结构 | ||
【主权项】：
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