[发明专利]气压调控的磁控薄膜转印印章及转印方法有效

专利信息
申请号: 202010264725.7 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN111446200B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 罗鸿羽;王苏浩;宋吉舟 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 万尾甜;韩介梅
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种气压调控的磁控薄膜转印印章及转印方法,该印章由印章主体、磁性薄膜和印章底面组装而成;转印方法为:1)拾取时,对印章施加向下的磁场,磁性薄膜产生向下的变形,将印章压在器件表面后撤去磁场,磁性薄膜回弹产生负压,再对印章施加反向磁场,磁性薄膜产生向上的变形使负压进一步增大,印章/器件界面处于强粘附状态,器件被成功拾取;2)印刷时,保持向上磁场并将印章/器件移到基底上方,撤去向上磁场并外加更强的反向磁场,磁性薄膜发生更大的向下变形而产生正压,印章/器件界面处于弱粘附状态,器件被成功印刷。该印章成本低廉;所述方法可实现常温下非接触转印,既能实现高效率的全局转印,也能实现精准的选择性转印。
搜索关键词: 气压 调控 薄膜 印章 方法
【主权项】:
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