[发明专利]近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法在审
| 申请号： | 202010266327.9 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN111440855A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 王德强;何石轩;周大明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
| 主分类号： | C12Q1/6869 | 分类号： | C12Q1/6869 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 杨柳岸 |
| 地址： | 400714 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法，属于纳米技术领域。该方法包括以下步骤：S1：近零厚度纳米孔制备；S2：近零厚度纳米孔DNA单碱基识别。本发明基于近零厚度纳米孔具有亚纳米孔的高空间分辨率，而且可以通过大规模半导体的生产工艺来实现，所以其具有很强的创新性和实用性，能够极大地推动基于纳米孔的DNA测序技术和蛋白质检测技术开发，有着很大的基础研究价值和潜在的实际应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 厚度 纳米 制备 dna 方法 | ||
【主权项】：
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