[发明专利]一种光学临近效应修正方法及装置

摘要

本发明公开了一种光学临近效应修正方法及装置，其中，光学临近效应修正方法包括：获取原始目标图形，并对所述原始目标图形进行预处理，形成二次目标图形，使得二次目标图形满足预设工艺规则；将所述二次目标图形进行光学临近效应修正处理，获取修正图形；根据所述修正图形获取所述原始目标图形的模拟轮廓；计算所述模拟轮廓与所述原始目标图形之间的偏差；根据所述偏差值判断所述修正图形是否满足工艺需求。本发明提供了一种光学临近效应修正方法及装置，以解决现有光学临近效应修正后，光刻图形失真严重的问题。